十八屆國(guó)際真空大會(huì) 時(shí)間：2010年8月23日~26日；地點(diǎn)：北京國(guó)際會(huì)議中心
真空事業(yè)部即將參加于該屆國(guó)際真空大會(huì)。展位號(hào)：A14,A15。
每三年舉辦一次的《國(guó)際真空科技大會(huì)》（The International Vacuum Congress,簡(jiǎn)稱(chēng)IVC）是“國(guó)際真空科技與應(yīng)用聯(lián)盟”（IUVSTA）組織舉辦的科技水平最高、參加會(huì)議人數(shù)最多的大型國(guó)際學(xué)術(shù)會(huì)議。
本屆展會(huì)的展示內(nèi)容主要是真空科學(xué)、表面科學(xué)、應(yīng)用表面科學(xué)、薄膜、電子材料和工藝、表面工程、等離子科技、納米科學(xué)技術(shù)等當(dāng)前最熱門(mén)的前沿、高科技領(lǐng)域；真空科學(xué)技術(shù)在機(jī)械、電子、冶金、航空、航天、輕工、化工、食品、醫(yī)藥、衛(wèi)生、印刷、建筑和裝飾燈各個(gè)領(lǐng)域中的應(yīng)用項(xiàng)目以及與真空技術(shù)有關(guān)的新工藝、新材料和新產(chǎn)品。
敬請(qǐng)光臨！